Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1016441495 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | In-situ atomic layer deposition growth of Hf-oxide / vorgelegt von Konstantin Karavaev |
| Person(en) | Karavaev, Konstantin (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2010 |
| Umfang/Format | VIII, 57 Bl. : graph. Darst. ; 30 cm |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Karavaev, Konstantin: In-situ Atomic Layer Deposition growth of Hf-oxide |
| Hochschulschrift | Cottbus, Techn. Univ., Diss., 2010 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Atomlagenabscheidung |
| DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Leipzig |
Signatur: 2011 B 31379 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
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