Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/995391246 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Microstructural effects on stress in thin films / vorgelegt von Markus Albin Wohlschlögel |
| Person(en) | Wohlschlögel, Markus Albin (Verfasser) |
| Ausgabe | [Online-Ausg.] |
| Sekundärausgabe | Online-Ausg.: [Stuttgart] : [Univ.-Bibliothek], 2008. Online-Ressource |
| Verlag | Stuttgart : Max-Planck-Inst. für Metallforschung |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | 146 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm, ca. 4,0 MB |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Wohlschlögel, Markus Albin: Microstructural effects on stress in thin films |
| Hochschulschrift | Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2008 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:93-opus-36733 |
| URL |
http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2008/3673/pdf/Thesis_MW_complete.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2008/3673/ (Verlag) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Max-Planck-Institut für Metallforschung: Bericht ; Nr. 218 |
| Schlagwörter | Spannung ; Mikrostruktur ; Dünne Schicht |
| DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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