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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/975753460 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Diffusion in stressed thin films = Diffusion in dünnen Schichten / Max-Planck-Institut für Metallforschung ... Vorgelegt von Jay Chakraborty |
Person(en) | Chakraborty, Jay (Verfasser) |
Verlag | Stuttgart : Max-Planck-Inst. für Metallforschung |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 29,9 MB |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Chakraborty, Jay: Diffusion in stressed thin films |
Hochschulschrift | Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2005 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:93-opus-23169 |
URL |
http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2316/pdf/Chakraborty_thesis161_2005.pdf (Verlag) http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2005/2316/ (Verlag) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Beziehungen | Max-Planck-Institut für Metallforschung: Bericht ; Nr. 161 |
Schlagwörter | Diffusionskoeffizient ; Interdiffusion ; Eigenspannung ; Röntgenbeugung ; Auger-Spektroskopie ; Kupfer ; Palladium |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
