Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1186578246 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie / Alexandra Ludsteck |
| Person(en) | Ludsteck, Alexandra (Verfasser) |
| Ausgabe | 1. Auflage |
| Verlag | Aachen : Shaker |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
| Umfang/Format | Online-Ressource, 130 Seiten : 69 Illustrationen (pdf) |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Ludsteck, Alexandra: Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie |
| Hochschulschrift | Dissertation, Universität der Bundeswehr München, 2005 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:101:1-2019051906570251226241 |
| ISBN/Einband/Preis | 978-3-8322-4247-3 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Beziehungen | Berichte aus der Halbleitertechnik |
| Schlagwörter | MOS-Schaltung ; Gate-Oxid ; Dielektrische Schicht ; Siliciumdioxid ; Siliciumoxinitride ; Rapid thermal processing |
| DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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