Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "Christopher" and "S." and "Rose"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1258564009 |
| Titel | Tuning the Performance of Negative Tone Electron Beam Resists for the Next Generation Lithography |
| Person(en) |
Lewis, Scott M. (Verfasser) DeRose, Guy A. (Verfasser) Alty, Hayden R. (Verfasser) Hunt, Matthew S. (Verfasser) Lee, Nathan (Verfasser) Mann, James A. (Verfasser) Grindell, Richard (Verfasser) Wertheim, Alex (Verfasser) De Rose, Lucia (Verfasser) Fernandez, Antonio (Verfasser) Muryn, Christopher A. (Verfasser) Whitehead, George F. S. (Verfasser) Timco, Grigore A. (Verfasser) Scherer, Axel (Verfasser) Winpenny, Richard E. P. (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022052715115830321050 DOI: 10.1002/adfm.202202710 |
| URL | https://doi.org/10.1002/adfm.202202710 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 27.05.2022 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Advanced functional materials (27.05.2022. 10 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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