Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

Neuigkeiten Donnerstag, 11. September 2025: Die Deutsche Nationalbibliothek öffnet wegen eines Beschäftigtentreffens an beiden Standorten erst um 15 Uhr. // Thursday, 11 September 2025: The German National Library will not open until 15:00 due to a staff meeting at both locations.
 
Neuigkeiten Vom 10. September 2025, 13 Uhr, bis 11. September 2025, 22 Uhr, kann es zu Einschränkungen bei der Bereitstellung von Medienwerken kommen. Wir informieren Sie per E-Mail über den aktuellen Stand Ihrer Bestellungen. // From 13:00 on 10 September 2025 until 22:00 on 11 September 2025, there may be restrictions on the provision of media works. We will inform you by email about the current status of your orders.
 
 

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Titel Atomic Layer Deposition of Vanadium Oxide and Tantalum Oxide Thin Films for Resistive Switching Applications / Shuangzhou Wang
Person(en) Wang, Shuangzhou (Verfasser)
Organisation(en) Verlag Dr. Hut (München) (Verlag)
Verlag München : Verlag Dr. Hut
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2025
Umfang/Format Online-Ressource, 194 Seiten
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Atomic Layer Deposition of Vanadium Oxide and Tantalum Oxide Thin Films for Resistive Switching Applications
Hochschulschrift Dissertation, Universität Köln, 2022
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2504112332556.409609081867
URL http://www.dr.hut-verlag.de/978-3-8439-5593-5.html (Verlag)
ISBN/Einband/Preis 978-3-8439-5593-5
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Anorganische Chemie
Anmerkungen Vom Verlag als Druckwerk on demand und/oder als E-Book angeboten
Schlagwörter Dünne Schicht* ; Atomlagenabscheidung* ; Aluminiumoxide* ; Nanostrukturiertes Material* ; Oxidschicht* ; Metalloxide* (*maschinell ermittelt)
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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