Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/982849559 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interface reactivity with praseodymium oxide dielectric layers / vorgelegt von Rakesh Sohal |
Person(en) | Sohal, Rakesh (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2006 |
Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 3,9 MB |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Sohal, Rakesh: CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interfacereactivity with praseodymium oxide dielectric layers |
Hochschulschrift | Cottbus, Univ., Diss., 2006 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:kobv:co1-opus-121 |
URL |
http://se6.kobv.de:8000/btu/volltexte/2006/12/pdf/Rakesh_PhDThesis.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) http://se6.kobv.de:8000/btu/volltexte/2006/12/ (Verlag) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Schlagwörter | Siliciumcarbid ; Kristallfläche ; Dielektrische Schicht ; CVD-Verfahren |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
