Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/997666935 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Structural analysis of HfO2 and HfSi2 ultra-thin films on Si(100) : . a photoelectron diffraction study / vorgelegt von Christian Rolf Flüchter |
| Person(en) | Flüchter, Christian Rolf (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 16,4 MB |
| Hochschulschrift | Dortmund, Techn. Univ., Diss., 2008 |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:hbz:290-2003/25779-3 Handle: 2003/25779 |
| URL | http://eldorado.tu-dortmund.de:8080/bitstream/2003/25779/1/Dissertation.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

