Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/99109946X |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Microstructural effects on stress in thin films / Markus Albin Wohlschlögel |
Person(en) | Wohlschlögel, Markus Albin (Verfasser) |
Verlag | Stuttgart : Max-Planck-Inst. für Metallforschung |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
Umfang/Format | 146 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Wohlschlögel, Markus Albin: Microstructural effects on stress in thin films |
Hochschulschrift | Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2008 |
ISBN/Einband/Preis | kart. |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Beziehungen | Max-Planck-Institut für Metallforschung: Bericht ; Nr. 218 |
Schlagwörter | Spannung ; Mikrostruktur ; Dünne Schicht |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Frankfurt |
Signatur: 2008 A 89349 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: 2008 A 110720 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
