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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Phase formation and size effects in nanoscale silicide layers for the sub-100 nm microprocessor technology / Jochen Rinderknecht
Person(en) Rinderknecht, Jochen (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
Umfang/Format Online-Ressource, ca. 16,4 MB
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Rinderknecht, Jochen: Phase formation and size effects in nanoscale silicide layers for the sub-100 nm microprocessor technology
Hochschulschrift Dresden, Techn. Univ., Diss., 2005
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:swb:14-1126002535643-34479
URL http://hsss.slub-dresden.de/pub2/dissertation/2005/maschinenwesen/1126002535643-3447/1126002535643-3447.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
http://hsss.slub-dresden.de/hsss/servlet/hsss.urlmapping.MappingServlet?id=1126002535643-3447 (Verlag)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter CMOS ; Dünne Schicht ; Mikroprozessor ; Schichtdicke ; Silicide
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]; 546.6832 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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