Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/983848483 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Herstellung und elektronische Eigenschaften hydrogenierter amorpher Siliziumfilme, abgeschieden unter extremen Depositionsbedingungen / von Stephan Will |
Person(en) | Will, Stephan (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: [2004] |
Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 1,7 MB |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Will, Stephan: Herstellung und elektronische Eigenschaften hydrogenierter amorpher Siliziumfilme, abgeschieden unter extremen Depositionsbedingungen |
Hochschulschrift | Marburg, Univ., Diss., 1997 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:hebis:04-z1998-00012 |
URL |
http://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z1998/0001/pdf/z1998-0001.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) http://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z1998/0001/ (Verlag) |
Sprache(n) | Deutsch (ger) |
Schlagwörter | Silicium ; Amorpher Halbleiter ; Wasserstoff ; Dünne Schicht ; PECVD-Verfahren |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
