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Bücher
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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Plasmaunterstützte Niedertemperaturprozesse für die Siliziumtechnologie : Prozessentwicklung und Defekt-Engineering / Reinhart Job
Person(en) Job, Reinhart (Verfasser)
Verlag Bochum : Bochumer Univ.-Verl.
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2002
Umfang/Format XIV, 250 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm
Hochschulschrift Zugl.: Hagen, Fernuniv., Habil.-Schr., 2002
ISBN/Einband/Preis 978-3-934453-87-6 kart. : EUR 39.00
3-934453-87-2 kart. : EUR 39.00
3-934453-87-6 (falsch) kart. : EUR 39.00
Beziehungen Halbleiter-Materialforschung ; 1
Schlagwörter Silicium ; Dotierung ; Thermischer Donator
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Frankfurt Signatur: 2005 A 39342
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2005 A 53567
Bereitstellung in Leipzig




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