Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/989984680 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Arsenic trisulfide inorganic photoresist for three-dimensional photolithography / von Sean Hang Edmond Wong |
| Person(en) | Wong, Sean Hang Edmond (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (PDF, ca. 9,2 MB) |
| Hochschulschrift | Karlsruhe, Univ., Diss., 2008 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:swb:90-90845 |
| URL | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| DDC-Notation | 621.381531 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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