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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/988688654
Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography = Mesoskopische Simulation der Photolackbearbeitung in der optischen Lithographie / vorgelegt von Thomas Schnattinger
Person(en) Schnattinger, Thomas (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: [2008]
Umfang/Format Online-Ressource, ca. 5,6 MB
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Schnattinger, Thomas: Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography
Hochschulschrift Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2007
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:bvb:29-opus-7432
URL http://www.opus.ub.uni-erlangen.de/opus/volltexte/2008/743/pdf/ThomasSchnattingerDissertation.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
http://www.opus.ub.uni-erlangen.de/opus/volltexte/2008/743/ (Verlag)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Computersimulation ; Direkte numerische Simulation ; Diskrete Simulation ; Monte-Carlo-Simulation ; Simulation ; Photoresist ; Lithographie <Halbleite
DDC-Notation 621.38152 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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