Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1226006248 |
| Titel | Dry Etch and Wet Clean Process Characterization of Ultra Low-k (ULK) Material Nanoglass®E / by B. Ramana Murthy, C.K. Chang, Ahilakrishnamoorthy, Y.W. Chen, Ananth Naman |
| Person(en) |
Murthy, B. Ramana (Verfasser) Chang, C.K (Verfasser) Ahilakrishnamoorthy (Verfasser) Chen, Y.W (Verfasser) Naman, Ananth (Verfasser) |
| Organisation(en) | SpringerLink (Online service) (Sonstige) |
| Umfang/Format | Online-Ressource : online resource. |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2021012921443651537330 DOI: 10.1557/PROC-812-F6.6 |
| URL | https://doi.org/10.1557/PROC-812-F6.6 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2004 |
| DDC-Notation | 661 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Materials Research Society: MRS online proceedings library (Bd. 812, 10.12.2020, Nr. 1, date:12.2003: F6.6.1-F6.6.6) |
| Sachgruppe(n) | 660 Technische Chemie |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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