Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: cod="ro"
|
|
|
| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1387614185 |
| Titel | Oxygen Plasma Treatment to Enable Indium Oxide MESFET Devices / Fabian Schöppach, Daniel Splith, Holger von Wenckstern, Marius Grundmann |
| Person(en) |
Schöppach, Fabian (Verfasser) Splith, Daniel (Verfasser) Wenckstern, Holger von (Verfasser) Grundmann, Marius (Verfasser) |
| Verlag | Leipzig : Universitätsbibliothek Leipzig |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2026 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:15-qucosa2-1017038 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Advanced electronic materials. 9(11). ISSN: 2199-160X |
| DDC-Notation | 530.44 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

