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Bücher
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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie / Stephan Altmannshofer
Person(en) Altmannshofer, Stephan (Verfasser)
Organisation(en) Fraunhofer EMFT, München (Herausgebendes Organ)
Fraunhofer IRB-Verlag (Verlag)
Verlag Stuttgart : Fraunhofer Verlag
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: [2019]
Umfang/Format xi, 214 Seiten : Illustrationen ; 21 cm
Hochschulschrift Dissertation, Universität der Bundeswehr München, 2018
ISBN/Einband/Preis 978-3-8396-1443-3 Broschur : EUR 87.00 (DE), EUR 89.50 (AT), CHF 146.20 (freier Preis)
3-8396-1443-0
Bestellnummer(n) Bestellnummer: fhg-emft_2
EAN 9783839614433
Sprache(n) Deutsch (ger)
Schlagwörter Mikrowellenplasma ; Plasmaätzen ; Plasmaabscheidung ; PECVD-Verfahren ; Schichtwachstum ; Silicium ; Epitaxie ; Reinigungsverfahren
DDC-Notation 621.38152 [DDC23ger]; 671.735 [DDC23ger]; 621.044 [DDC23ger]
Sachgruppe(n) 621.3 Elektrotechnik, Elektronik ; 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Weiterführende Informationen Inhaltstext
Inhaltsverzeichnis

Frankfurt Signatur: 2019 A 52802
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2019 A 52552
Bereitstellung in Leipzig




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