Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1278204733 |
| Titel | Electrical and optical properties of TiO 2 thin films prepared by plasma‐enhanced atomic layer deposition |
| Person(en) |
Dang, Van‐Son (Verfasser) Parala, Harish (Verfasser) Kim, Jin Hyun (Verfasser) Xu, Ke (Verfasser) Srinivasan, Nagendra B. (Verfasser) Edengeiser, Eugen (Verfasser) Havenith, Martina (Verfasser) Wieck, Andreas D. (Verfasser) de los Arcos, Teresa (Verfasser) Fischer, Roland. A. (Verfasser) Devi, Anjana (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2023011504495867225703 DOI: 10.1002/pssa.201330115 |
| URL | https://doi.org/10.1002/pssa.201330115 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 20.10.2013 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (Bd. 211, 2014, Nr. 2: 416-424. 9 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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