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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Influence of the plasma chemistry and energetics of an Al cathodic arc discharge on the composition and structure of Alumina thin films / Adil Atiser
Person(en) Atiser, Adil (Verfasser)
Ausgabe 1. Aufl.
Verlag Aachen : Shaker
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2011
Umfang/Format Online-Ressource : 11 farb. Ill. (pdf)
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Atiser, Adil: Influence of the plasma chemistry and energetics of an Al cathodic arc discharge on the composition and structure of alumina thin films
Hochschulschrift Zugl.: RWTH Aachen University, Diss., 2010
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-201601033838
ISBN/Einband/Preis 978-3-8322-9842-5
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Materials Chemistry ; 2011,10
Anmerkungen Lizenzpflichtig
Schlagwörter Aluminiumoxide ; Dünne Schicht ; Plasmaabscheidung ; Aluminiumion ; Bogenplasma
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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