A Self-Consistent Model for Thermal Oxidation of Silicon at Low Oxide Thickness

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Link zu diesem Datensatz	https://d-nb.info/1230484191
Titel	A Self-Consistent Model for Thermal Oxidation of Silicon at Low Oxide Thickness / Gerald Gerlach, Karl Maser
Person(en)	Gerlach, Gerald (Verfasser) Maser, Karl (Verfasser)
Verlag	Dresden : Technische Universität Dresden - Dresden : Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden
Zeitliche Einordnung	Erscheinungsdatum: 2017
Umfang/Format	Online-Ressource
Persistent Identifier	URN: urn:nbn:de:bsz:14-qucosa-214263
URL	(kostenfrei zugänglich)
Sprache(n)	Englisch (eng)
Anmerkungen	In: Advances in Condensed Matter Physics (2016). ISSN: 1687-8124. DOI: /10.1155/2016/7545632
DDC-Notation	530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n)	530 Physik

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