|
Link zu diesem Datensatz
|
https://d-nb.info/1044748915
|
Art des Inhalts
|
Hochschulschrift
|
Titel
|
Fabrication, characterization and simulation of band-to-band tunneling field-effect transistors based on silicon-germanium / Matthias Schmidt
|
Person(en)
|
Schmidt, Matthias (Verfasser)
|
Verlag
|
Aachen : Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen
|
Zeitliche Einordnung
|
Erscheinungsdatum: 2013
|
Umfang/Format
|
Online-Ressource
|
Andere Ausgabe(n)
|
Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Schmidt, Matthias: Fabrication, characterization and simulation of band-to-band tunneling field-effect transistors based on silicon germanium
|
Hochschulschrift
|
Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2013
|
Persistent Identifier
|
URN: urn:nbn:de:hbz:82-opus-47825
|
URL
|
http://darwin.bth.rwth-aachen.de/opus3/volltexte/2013/4782 (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
|
Sprache(n)
|
Englisch (eng)
|
Schlagwörter
|
CMOS , T-FET , Halbleiterbauelement , Halbleiterphysik , Silicium
|
DDC-Notation
|
537.6226 [DDC22ger]; 621.3815284 [DDC22ger]
|
Sachgruppe(n)
|
530 Physik
|