Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=530.4*
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/101861804X |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Influence of reactive sputtering process parameters on the structure and properties of TiO2 thin films / vorgelegt von Azza Amin El-Hamshary |
| Person(en) | Hamshary, Azza Amin el- (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2011 |
| Umfang/Format | II, 176 S. : Ill., graph. Darst. ; 30 cm |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Hamshary, Azza Amin el-: Influence of reactive sputtering process parameters on the structure and properties of TiO2 thin films |
| Hochschulschrift | Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011 (Nicht für den Austausch) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Dünne Schicht, Reaktives Sputtern, Titan |
| DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Frankfurt |
Signatur: 2012 B 1663 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2012 B 15248 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
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