Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1292122846 |
| Titel | Optimizing the plasma oxidation of aluminum gate electrodes for ultrathin gate oxides in organic transistors / Michael Geiger, Marion Hagel, Thomas Reindl, Jürgen Weis, R. Thomas Weitz, Helena Solodenko, Guido Schmitz, Ute Zschieschang, Hagen Klauk, Rachana Acharya |
| Person(en) |
Geiger, Michael (Verfasser) Hagel, Marion (Verfasser) Reindl, Thomas (Verfasser) Weis, Jürgen (Verfasser) Weitz, R. Thomas (Verfasser) Solodenko, Helena (Verfasser) Schmitz, Guido (Verfasser) Zschieschang, Ute (Verfasser) Klauk, Hagen (Verfasser) Acharya, Rachana (Verfasser) |
| Verlag | Stuttgart : Universitätsbibliothek der Universität Stuttgart |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-130763 DOI: 10.18419/opus-13057 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Scientific reports 11 (2021), No. 6382 |
| DDC-Notation | 621.484 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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