Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Characterization and chemical recovery of plasma damaged porous low-k SiOCH dielectric for the semiconductor industry / von Thomas Oszinda. Fraunhofer-Center Nanoelektronische Technologien
Person(en) Oszinda, Thomas (Verfasser)
Organisation(en) Fraunhofer CNT (Sonstige)
Verlag Stuttgart : Fraunhofer-Verl.
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2012
Umfang/Format 161 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm
Hochschulschrift Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2011
ISBN/Einband/Preis 978-3-8396-0369-7 kart. : EUR 42.00 (DE), EUR 43.20 (AT), sfr 67.00 (freier Pr.)
3-8396-0369-2
EAN 9783839603697
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Low-k-Dielektrikum ; Nanoporöser Stoff ; Plasmaätzen ; Schädigung ; Silylierung ; ULSI ; Molekulardesign
DDC-Notation 621.38152 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 621.3 Elektrotechnik, Elektronik ; 530 Physik
Weiterführende Informationen Inhaltsverzeichnis
Inhaltstext

Frankfurt Signatur: 2012 A 77887
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2012 A 32719
Bereitstellung in Leipzig




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