Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1269481975 |
| Titel | Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Iridium Oxide for Application in Miniaturized Neural Implants / Nicolai Simon, Maria Asplund, Thomas Stieglitz, Volker Bucher |
| Person(en) |
Simon, Nicolai (Verfasser) Asplund, Maria (Verfasser) Stieglitz, Thomas (Verfasser) Bucher, Volker (Verfasser) |
| Verlag | Furtwangen : Hochschule Furtwangen |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:bsz:fn1-opus4-78265 DOI: 10.1515/cdbme-2021-2137 |
| URL | https://opus.hs-furtwangen.de/frontdoor/index/index/docId/7826 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Current Directions in Biomedical Engineering 7.2021, 2, S. 539-542 |
| DDC-Notation | 541 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 540 Chemie |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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