Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/120839309X |
| Titel | Electronic and electrocatalytic properties of nickel oxide thin films and interfacing on silicon for water splitting devices / Raphaël Poulain ; Andreas Klein, Joris Proost, Ulrike Kramm, Denis Flandre, Karsten Albe, Thierry Toupance, Marian Chatenet |
| Person(en) |
Poulain, Raphaël (Verfasser) Kramm, Ulrike (Akademischer Betreuer) Klein, Andreas (Akademischer Betreuer) Proost, Joris (Akademischer Betreuer) Flandre, Denis (Akademischer Betreuer) Albe, Karsten (Akademischer Betreuer) Toupance, Thierry (Akademischer Betreuer) Chatenet, Marian (Akademischer Betreuer) |
| Verlag | Darmstadt : Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2020 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Hochschulschrift | Dissertation, Darmstadt, Technische Universität Darmstadt, 2020 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:tuda-tuprints-114757 |
| URL | http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/11475/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Nickel oxide* ; Silicon* ; Water* ; Thin films* (*maschinell ermittelt) |
| DDC-Notation | 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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