Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1285673778 |
| Titel | DFT modeling of atomic layer deposition of Ru interconnect metal for EUV scaling / by Matthew Bergschneider, Nickolas Ashburn, Xiuyao Lang, Andrew C. Kummel, Kyeongjae Cho |
| Person(en) |
Bergschneider, Matthew (Verfasser) Ashburn, Nickolas (Verfasser) Lang, Xiuyao (Verfasser) Kummel, Andrew C. (Verfasser) Cho, Kyeongjae (Verfasser) |
| Organisation(en) | SpringerLink (Online service) (Sonstige) |
| Umfang/Format | Online-Ressource : online resource. |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2023040621091485223856 DOI: 10.1557/s43580-022-00482-1 |
| URL | https://doi.org/10.1557/s43580-022-00482-1 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2023 |
| DDC-Notation | 541 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: MRS advances (31.1.2023: 1-5) |
| Sachgruppe(n) | 540 Chemie |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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