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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1011134497 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Anlagen- und Prozessentwicklung für das Niedrigtemperatur-Direktbonden mittels Atmosphärendruck-Plasmaaktivierung / von Marko Eichler. Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik, IST |
| Person(en) | Eichler, Marko (Verfasser) |
| Organisation(en) | Fraunhofer IST, Braunschweig (Sonstige) |
| Verlag | Stuttgart : Fraunhofer-Verl. |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2011 |
| Umfang/Format | 112 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
| Hochschulschrift | Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 2010 |
| ISBN/Einband/Preis | 978-3-8396-0227-0 kart. : EUR 50.00 (DE), sfr 79.00 (freier Pr.) |
| EAN | 9783839602270 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Beziehungen | Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik: Berichte aus Forschung und Entwicklung ; Nr. 032 |
| Schlagwörter | Silicium ; Glas ; Wafer ; Bonden ; Niedrigtemperatur ; Atmosphärendruckplasma |
| DDC-Notation | 621.381046 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Weiterführende Informationen |
Inhaltsverzeichnis Inhaltstext |
| Frankfurt |
Signatur: 2011 A 56786
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2011 A 49951
Bereitstellung in Leipzig |
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