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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/124600626X
Titel Reactive magnetron sputtering of Cu₂O: Dependence on oxygen pressure and interface formation with indium tin oxide / Jonas Deuermeier, Jürgen Gassmann, Joachim Brötz, Andreas Klein
Person(en) Deuermeier, Jonas (Verfasser)
Gassmann, Jürgen (Verfasser)
Brötz, Joachim (Verfasser)
Klein, Andreas (Verfasser)
Verlag Darmstadt : Universitäts- und Landesbibliothek
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2021
Umfang/Format Online-Ressource
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:tuda-tuprints-199383
DOI: 10.26083/tuprints-00019938
URL http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/19938/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Anmerkungen In: Journal of Applied Physics, 109, (11), AIP Publishing, ISSN 0021-8979, https://doi.org/10.26083/tuprints-00019938
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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